Juntando um emissor de elétrons de estado sólido e uma microcavidade de plasma, pesquisadores da Universidade de Illinois, nos Estados Unidos, criaram um transístor de plasma que poderá ser utilizado para fabricar telas planas mais leves, mais baratas e com resolução muito superior às atuais.

Essa junção tornou capaz de produzir telas planas de 1mm de espessura. A vantagem, em relação às células das telas de plasma tradicionais, é que as microcavidades de plasma operam sob pressão atmosférica, dispensando os dois grossos painéis de vidro necessários para selar os pixels das telas atuais.

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